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磁增強反應離子刻蝕機

儀器型號：ME-3A型

購置年月：2012年6月

儀器簡(jiǎn)介：

ME－3A型多功能機既可作反應離子刻蝕(RIE)，又可作磁增強反應離子刻蝕(MERIE)，且轉換十分方便(只需撥一下開(kāi)關(guān))，由于有磁場(chǎng)的作用，它在較高真空度(< 1Pa)下亦可起輝并穩定工作，因此，它不僅可用于常規的半導體干法刻蝕，還特別適用于亞微米和邊沿陡直圖形的刻蝕，使用不同的氣體，它可刻蝕Si₃N₄、SiO₂、磷硅玻璃、Si、poly－Si、W、WSi、Mo、石英、鈮、正、負光刻膠、聚乙酰亞胺等材料。該機型具有六路進(jìn)氣入口(其中二路用于氣路清洗)，采用4個(gè)質(zhì)量流量計控制氣流流量，因此重復性好，可自動(dòng)控時(shí)。另外，該機預抽真空的時(shí)間很短(3~5分鐘)，工作效率高，操作簡(jiǎn)單。

應用范圍：

不僅可用于常規的半導體干法刻蝕，還特別適用于亞微米和邊沿陡直圖形的刻蝕。

技術(shù)參數：

1. 射頻功率：10-500瓦(可調)

2. 真空系統：110升/秒分子泵機組

3. 均勻性：±5% (4英寸內)

4. 反應室尺寸：內徑300 mm

5. 整機尺寸：1.06×0.7×1.32 m³