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移動(dòng)掩模曝光系統（紫外光刻機）

儀器型號：中國光電URE-2000A/55

購置年月：2012年6月

儀器簡(jiǎn)介：

URE-2000系列紫外深度光刻機采用積木錯位蠅眼透鏡平滑衍射效應、真空曝光和氣浮曝光等技術(shù)，實(shí)現了高均勻照明和亞微米高分辨力光刻；采用底面對準技術(shù)，單曝光頭實(shí)現高準確度雙面對準曝光；采用積木錯位蠅眼透鏡結合離軸非球面反射照明等技術(shù)，實(shí)現大面積、高能、均勻、冷光、平行曝光；采用雙焦點(diǎn)對準技術(shù)，實(shí)現厚膠高準確度對準與套刻。

應用范圍：

廣泛應用于半導體、微電子、生物器件和納米科技領(lǐng)域，在LED、MEMS、IC領(lǐng)域及大尺寸光柵、碼盤(pán)等刻劃中也具有突出的功能與用途。

技術(shù)參數：

1. 曝光面積：150mm×150mm

2. 分辨力：0.8-1μm（膠厚2μm的正膠）

3. 對準精度：0.6μm

4. 掩模樣片整體運動(dòng)范圍：X：6mm;Y:6mm

5. 掩模尺寸：3英寸、4英寸、5英寸、7英寸

6. 樣片尺寸：直徑15mm-- 150mm；厚度0.1mm--8mm

7. 照明均勻性： 3.5%（100mm 范圍）； 5%（ 150mm范圍）

8. 掩模相對于樣片運動(dòng)行程：X: 5mm; Y: 5mm; : 6度

9. 最大膠厚：500m(SU8膠，用戶(hù)提供勻膠條件)

10. 光源平行性：3.5

11. 汞燈功率：1000W（直流）

12. 曝光設定方式：定時(shí)（倒計時(shí)方式0.1s-999.9s任意設定）

13. 外形尺寸:1400mm（長(cháng)）1200mm(寬) 2150mm（高）